前段时间根据海外媒体《DigiTimes》报道，ASML准备发布一款符合最新美国出口规定的光刻机(DUV)的特殊版本，该机器可以在没有许可证的情况下向中国客户发货。该设备将使中芯国际和华虹等公司能够在28nm（纳米）上制造更好的芯片，但不允许它们使用更先进的制程。然而该公司后来否认了这一报道。 7月6日ASML写了一份说明，称《DigiTimes》的报道不正确。 ASML在一份声明中表示：“ASML遵守所有适用的法律法规，并不是专门为中国设计的机器，也不会对谣言和猜测做出进一步回应。” 所讨论的光刻机器是Twinscan NXT:1980Di，这是目前ASML仍在生产的最落后的机器。该机器具有1.35数值孔径光学，并能够达到小于38 nm的工艺，这足以满足7nm级甚至更先进的节点。事实上，这种机器最初于2016年发布，被台积电用于开发其7nm级工艺技术。 为了防止中芯国际和其他中国芯片制造商创造亚28nm工艺技术，削减该器件并提高其最低支持纳米，理论上是可行的。但是请记住，中芯国际的大部分来自于厚度超过28纳米的制程，中国企业很可能仍对采购此类机器感兴趣。 根据最新的出口规定，美国企业和个人必须获得出口工具和技术许可，这些工具和技术可以制造14nm/16nm节点及以下的非平面晶体管逻辑芯片、128层及以上的3D NAND、18nm半间距及以下的DRAM存储芯片。同样的规则也适用于从美国出口零部件的非美国公司，ASML的Twinscan NXT:1980Di就是这样的机器。 荷兰最新的出口规则要求ASML获得出口许可证，才能向中国企业销售其Twinscan NXT:2000i机器。ASML还没有正式推出限量版的Twinscan NXT，但如果出口法规继续限制向中国销售先进技术，此举似乎有可能。