荷兰光刻机巨头ASML发表声明，表示已获政府发出许可证，允许ASML今年继续出口光刻系统，将持续在年底前向中国客户交付支持38nm至7nm的先进半导体制造装备。 据《快科技》报道，ASML已经获得荷兰官方的允许，在今年年底前向中国客户出口其生产的先进半导体制造设备。 该公司表示，直到年底之前，ASML将能继续出货其NXT：2000i和更先进的DUV（深紫外线）型号的产品。 这些产品从9月1日起受到相关法令的限制。 至于2024年是不是可以继续对中国出口此一等级的DUV光刻机或更先进的半导体设备，ASML则表示暂时还无法确定。 据ASML官网提供的信息，该公司目前售卖的主流浸没式DUV光刻机产品共有3款，分别是：TWINSCAN NXT：1980Di、TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。 目前已确知NXT：1980Di不在限制范围内，NXT：2000i与NXT：2050i仍需获得荷兰政府的许可。 据ASML公布财报指出，2023财年2季度销售额处于高水平，其中高阶EUV光刻机销量呈现下滑，而营收成长主要来自于浸润式DUV光刻机超出预期，尤其是中国市场在DUV光刻机占比较1季度大幅成长200%，让ASML的业绩保持强劲成长。 今年前7个月，中国从ASML进口的半导体设备较去年同期增长了64.8%。 半首体业界专家指出，尽管出口管制收紧带来了挑战，但中国对半导体设备进口额的大幅增长，显示中国正在继续扩大成熟制程的生产。 据市场研究机构Counterpoint的数据显示，今年第2季度，前5大半导体设备制造商对中国的出货量增长了30%。