光刻机是决定半导体生产制成水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、电脑系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。 而随着半导体技术进入到5nm节点以内，对EUV曝光机的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，可以说掌握了半导体生产的关键。
面对制裁，中国近年希望能把半导体生产的各种设备国产化，曝光机也是重要的一环。 最近中媒报道，上海微电子正极力研发28纳米DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机交付市场。
曝光机可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰ASML占绝对垄断地位，日本的尼康（Nikon）、佳能（Canon）也有很强的实力。 在最先进制程的EUV曝光机方面，中国相比于外国起步晚了50年，像是上海微电子的技术就与国外巨头有很大的差距。
但在非最先进制程的中高阶光刻机方面，SSA/800-10W光刻机就属于这一类的产品，上海微电子似乎已经有自主生产的能力。
原本美国制裁的政策并没有阻止中国厂商向ASML购买非最先进制程的中高阶光刻机，但是网上媒体在6月30日报道，美国和荷兰已达成协议，进一步管制芯片设备输中。 今年七月，荷兰政府就宣布新法规，规定ASML的DUV曝光机也不能直接输出中国。
而就在相隔一个月，上海微电子就被爆料年底可交付28纳米DUV光刻机，这个时间点也相当微妙。
不过，光刻机只是整个半导体制造产业链中的一环，还涉及到光阻剂、惰性气体、光源、物镜、涂胶显影设备、光罩等诸多环节。 想要完全变成国产，也没有这么简单。
去年据媒体报道，北京政府拨款1400亿美元（折合约4.3兆元新台币）要振兴本土半导体产业，补助包括购买中国制造的芯片生产设备等。 而上海微电子装备和其它的中国同业，主要把产品卖给中国国内晶圆厂的厂商为最大的受惠者。
近年来，ASML已经成为世界半导体技术的中心位置。 去年ASML两次提高了生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光）曝光机以及90台EUV（极紫外光）曝光机。